二氧化硅片是指在硅片表面熱生長一層均勻的介質(zhì)薄膜，用作絕緣、或者掩模材料。氧化工藝包括高溫干氧氧化、高溫濕氧氧化。公司采用進(jìn)口氧化設(shè)備、工藝實現(xiàn)氧化層均勻、準(zhǔn)確的生成。森爍定制 4寸6寸8寸12寸二氧化硅SiO2薄膜 雙面干/濕氧熱氧化單晶硅片。 產(chǎn)品特點： ● 氧化層厚度均勻 ● 平整度好 ● 翹曲度小 ● 尺寸公差小 ● 表面無光滑無瑕疵