一．設備概述：  程控擴散爐采用儀表程序升溫控方式操作，該設備用于半導體等行業的3-4英寸工藝硅片擴散、氧化、退火、合金等工藝。 
 
 二．設備類型：
方式：
手動操作方式，小工作臺面


可配工藝管數量：

1-4管系統


凈化臺潔凈度：

1000級（10000級廠房）


氣體流量控制：

均用進口浮子流量計控制


送取片方式：

手動推拉


使用類型：

3-4寸爐管




三．設備主要參數：
工作溫度：
300～1290℃


爐管有效口徑:

￠150-190mm


總功率：

15-24KVA/管  保溫功率：6-10KVA/管


三相五線制：

380V±10%，50Hz±10%，次級線不小于35平方高溫線


報警:

具有超溫報警，斷偶報警，氣體互鎖等功能


恒溫區長度及段數：

400-1100mm（3-5段控溫）


控溫精度：

± ℃（≧1000℃）


單點溫度穩定性：

±1℃/72h


控溫方式：

高精度儀表程序控制


熱偶類型:

熱電偶采用K/S/R型，每管Spike 4-6支熱偶


可控升溫范圍：

(500～1285℃)0--15℃/min


可控降溫范圍：

(500～1285℃)0--10℃/min


設備總外形尺寸：

根據設備配置不同,尺寸有所不同




四．主要構成：
1、
設備主機


2、

加熱系統


3、

排風冷卻系統


4、

排箱（和設備主機做為一體）


5、

控制系統




設備主要特點和優勢


 1★程序可以實現手/自動工作，在停電或中途停機后，再次啟動可以根據工藝手動升溫，節省工藝時間； 
 2★冷端采用PT100檢測環境溫度進行溫度補償，避免環境溫度變化，對爐膛溫度產生影響，避免層間干擾； 
 3★氣體流量控制采用浮子流量計控制； 
 4★具有多種報警功能及安全保護功能；
5★恒溫區手動調整，可準確控制反應管的實際工藝溫度；