TJ微孔矩陣掩膜版濺射掩膜板叉指電極掩模版激光加工精密切割
華諾激光承接各種圖案定制，客戶較好能提供包含尺寸的CAD版設(shè)計(jì)圖。如果畫(huà)圖實(shí)在有困難，我們可以根據(jù)客戶描述來(lái)繪制，同時(shí)我們還能對(duì)客戶的掩膜版設(shè)計(jì)提供一些建議。
掩膜版的應(yīng)用
每個(gè)芯片上的實(shí)際電路結(jié)構(gòu)是用掩模版和光刻技術(shù)制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外線吸收材料制作的。光敏層即光刻膠被預(yù)先噴到半導(dǎo)體表面。
掩模和光刻工藝是很關(guān)鍵的，因?yàn)樗麄儧Q定著器件的極限尺寸。除了紫外線，電子束和X射線也能用來(lái)對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光 。
1、低開(kāi)模費(fèi),可以按設(shè)計(jì)人員的設(shè)計(jì)要求進(jìn)行掩膜圖形任意更改，成本低
2、能實(shí)現(xiàn)金屬的半刻，增加公司LOGO，實(shí)現(xiàn)品牌化生
3、可達(dá)+/- 的精度，滿足不同產(chǎn)品的組裝要求
4、復(fù)雜外形產(chǎn)品同樣可以蝕刻，無(wú)需額外增加成本
5、沒(méi)有毛刺，壓點(diǎn)，產(chǎn)品不變形,不改變材料性質(zhì)，不影響產(chǎn)品的功能
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