TJ標(biāo)定掩膜版非金屬掩膜激光精密切割微結(jié)構(gòu)加工
掩膜版（又稱(chēng)光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱(chēng)掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
掩膜版的應(yīng)用
每個(gè)芯片上的實(shí)際電路結(jié)構(gòu)是用掩模版和光刻技術(shù)制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外線吸收材料制作的。光敏層即光刻膠被預(yù)先噴到半導(dǎo)體表面。
掩模和光刻工藝是很關(guān)鍵的，因?yàn)樗麄儧Q定著器件的極限尺寸。除了紫外線，電子束和X射線也能用來(lái)對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光 。
掩模版的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機(jī)中，掩模版作為一個(gè)光學(xué)元件位于會(huì)聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模版上的圖形縮小4~10倍（現(xiàn)代光刻機(jī)一般都是縮小4倍）后投射在晶圓表面。為了區(qū)別于接觸式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又稱(chēng)為倍縮式掩模（reticle）  。
本公司承接各種圖案定制，客戶較好能提供包含尺寸的CAD版設(shè)計(jì)圖。如果畫(huà)圖實(shí)在有困難，我們可以根據(jù)客戶描述來(lái)繪制，同時(shí)我們還能對(duì)客戶的掩膜版設(shè)計(jì)提供一些建議。