氧化擴散爐應用于半導體分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規模集成電路制造領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸。 產品特點 ● 可保存多條工藝曲線，每條曲線可設置多步 ● 工藝曲線的自動運行控制功能 ● 工藝中可強制跳到下一工藝步運行功能 ● 自動運行中可暫停／繼續運行功能 ● 可存儲多組PID參數供系統運行調用功能 ● PID參數自整定功能 ● 工藝氣體的程序控制功能 ● 關鍵部件全部具有高可靠性 ● 具有良好的人機界面 ● 系統故障自診功能 ● 停電后斷點繼續運行功能等等 ● 具有歷史記錄功能，可打印 ● 具有多點溫度補償 ● 該系統可根據用戶的特殊要求增減開發相應的功能