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南京半導體用真空燒結爐咨詢，半導體用真空燒結爐用于真空條件下集成電路、電力電子器件生產線對所生產產品進行燒結、合金、退火、焊接等工藝處理。具有控溫精度高，降溫速度快的特點。半導體用真空燒結爐特點：關鍵件全部采用進口件，具有高可靠性；具有可編程的升、降溫功能；具有多種工藝管路，可供用戶隨意靈活配置；具有高抗干擾能力；具有斷電報警、超溫報警、超溫報警等多種安全保護功能；自動或手動自由轉換。半導體用真空燒結爐技術指標：真空室工位：1~3工位；工作室內徑：Φ100-Φ350mm（定制）；工作溫度：300℃~1200℃；恒溫區精度：≤±2℃；恒溫區長度：300-1000mm（定制）；真空系統：機械泵+擴散泵(分子泵)；真空度：5Χ10-3Pa；工藝氣體：N2、Ar、H2等；正壓、負壓均采用數字顯示；工作方式：自動或手動自由轉換。

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