疏水型氣相二氧化硅三級分散機
疏水性氣相二氧化硅簡介：
疏水性氣相二氧化硅一般是經過后處理的產品。可以選用不同型號的氣相法或沉淀法二氧化硅作為原料
疏水性氣相二氧化硅特性：是通過親水性氣相二氧化硅與活性硅烷(例如氯硅烷或六甲基二硅胺烷)發生化學反應而制得。它具有疏水性(憎水性)，而且不能在水中分散。為了解決工業中一些特殊的技術問題，各種型號的疏水性氣相二氧化硅被研發出來。如通過用硅烷或硅氧烷處理改性親水級別的氣相法二氧化硅生產疏水性的氣相法二氧化硅，在最終的產品中，化學處理劑以化學鍵方式結合在原來的親水性氧化物上。除了親水性產品的上述優點外，疏水性氣相二氧化硅產品的特點是:低吸濕性、很好的分散性、即使對于極性體系也有流變調節能力。有些產品，在疏水處理的基礎上再經過結構改性，可為客戶研發新產品和提高產品的性能提供進一步的幫助。
疏水性氣相二氧化硅主要有：
研磨分散：利用三輥機或多輥機的輥與輥速度的不同，將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝，二輥以不同速度內向旋轉，部分研磨料進入加料縫并受到強大的剪切作用，通過加料縫，研磨料被分為兩部分，一部分附加在加料輥上回到加料溝，另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫，在此又一次受到更強大的剪切力作用。經過刮漆縫，研磨料又分成兩部分，一部分由前輥帶到刮處，落入刮漆盤，另一部分再回到加料溝，如此經幾次循環，可達到分散的目的。但用三輥機或多輥機進行處理效率低，能耗高，滿足不了大生產的需求。
球磨分散：

超高速分散機的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是***重要的。根據行業特殊要求，太倉希德在XR2000系列的基礎上又開發出XRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過 ;rpm，轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經分布更窄。由于能量密度極高,無需其他輔助分散設備。 
XRS設備與傳統設備比較：
多層多向剪切分散
同類設備的定轉子等部件結構單一，多級多層的結構是單純重復性加工，相同的齒槽結構易發生物料未經分散便通過工作腔的短路現象；
XRS設備的定轉子結構采用多層多向剪切概念，裝配式結構使物料得到不同方向剪切分散，短路現象。