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在本征區熔高阻硅片表面的保護層中可以形成一層保護膜，防止其二次吸附。在清洗劑中的活性物質可以直接通過高阻硅片表面進入電鍍槽，并且通過高阻硅片表面的保護膜對電鍍工序產生影響。本征區的熔高阻硅片在其清洗劑中的活性物質可以吸附在硅片表面，使其長期處于易清洗的物理吸附狀態，并且能有效提高外延或擴散工序的成品率。本征區的熔高阻硅片在其清洗劑中可以吸附在硅片表面，使其長期處于易清潔狀態。本征區熔高阻硅片的產品是一種高阻硅片，它的主要特點是在高溫、高壓、低溫下，能有效地吸附在硅片表面。本征區熔高阻硅片具有良好的透氣性和光學性，在高溫條件下，該產品可以使用一個月左右。