Picosun系統已經成為高產能ALD制造業的新標準。擁有的熱壁、*獨立的前驅體管路和特殊的載氣設計，確保我們可以生產出具有優異的成品率、低顆粒水平和的電學和光學性能的高質量ALD薄膜。緊湊的設計使得維護更加方便、快捷，限度的減少了系統的維護停工期和使用成本。擁有專技術的Picoflow?使得在超高深寬比結構上沉積保形性薄膜，并已在生產線上得到驗證。  
PICOSUN?P-300F系統代表了工業化ALD工藝。這個系統是為全自動的批量生產而設計，并與工業標準化的單片晶圓真空集群平臺相結合。P-300F系統通過SEMIS2/S8認證，可以通過SECS/GEM整合到自動化生產線上。  
ThePICOSUN?P-300F是IC行業創新驅動行業的選ALD系統！  
襯底尺寸和類型  
?200mm晶圓50片/批次  
?150mm晶圓50片/批次  
?100mm晶圓50片/批次  
?高深寬比基底（深寬比1:2500）  
?基底材料：Si,玻璃，石英，SiC,GaN,GaAs,LiNbO3,LiTaO3,InP  
工藝溫度和產率  
?50–300°C  
?達到1000片/24h@15nmAl2O3薄膜  
?批量生產的平均工藝時間小于10秒/循環*  
?Al2O3,SiO2,Ta2O5,HfO2,ZnO,TiO2,ZrO2,AlN,TiN以及各種金屬  
?同一批次薄膜不均勻性<1%1σ  
(Al2O3,WIW,WTW,B2B,49pts,5mmEE)**  
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