脫硫石膏煅燒工藝
（1）低溫慢速煅燒
低溫慢速煅燒是指物料在煅燒設(shè)備中停留時(shí)間較長，進(jìn)出料時(shí)間至少為幾十分鐘，石膏顆粒的表面溫度均處于較低狀態(tài)，石膏顆料內(nèi)外溫度較為接近，如炒鍋、間接式回轉(zhuǎn)窯、間接式沸騰爐等均為低溫慢速煅燒設(shè)備。這些煅燒設(shè)備是通過內(nèi)置加熱管使脫硫石膏間接受熱，熱源一般采用蒸汽、導(dǎo)熱油或熱煙氣。因其是間接加熱，物料與熱源間的傳熱速度較慢，石膏慢慢加熱升溫后，緩慢脫水而成半水石膏。低溫慢速煅燒突出的優(yōu)點(diǎn)是產(chǎn)品質(zhì)量均勻穩(wěn)定，由于低溫煅燒，其煅燒產(chǎn)品中絕大部分為半水石膏（約88％），極少量的AⅢ型無水石膏（約2％）和二水石膏（小于l％），結(jié)晶水含量為 ％~ ％，所以低溫慢速煅燒生成的建筑石膏粉質(zhì)量穩(wěn)定，相組成穩(wěn)定，凝結(jié)速度慢，標(biāo)準(zhǔn)稠度需水量小。
（2）高溫快速煅燒
高溫快速煅燒時(shí)熱源溫度多大于600℃，物料在煅燒裝置內(nèi)停留僅幾十秒鐘，石膏顆粒的表面溫度較高，顆料內(nèi)部溫度根據(jù)成團(tuán)顆料大小的不同而不同，如氣流煅燒、直接式回轉(zhuǎn)窯煅燒等均采用高溫快速煅燒工藝。高溫快速煅燒設(shè)備是脫硫石膏與高溫?zé)煔庵苯咏佑|進(jìn)行換熱，快速脫水煅燒。由于細(xì)石膏粉升溫較快，極易生成無水石膏AⅢ和無水石膏AⅡ；中等細(xì)度的石膏粉主要生成半水石膏HH；而成團(tuán)的粗石膏粉則出現(xiàn)表面煅燒完成，內(nèi)部未達(dá)到煅燒溫度仍保持二水相。其相組分一般為半水石膏HH約70％、無水石膏AⅢ約10％，二水石膏約3％，表現(xiàn)出無水石膏AⅢ的比例較大，甚至?xí)a(chǎn)生量的無水石膏AⅡ，降低了石膏的活性成份。所以快速煅燒工藝控制難度較大，建筑石膏質(zhì)量波動(dòng)較大，產(chǎn)品相組成不穩(wěn)定，凝結(jié)速度過快，標(biāo)準(zhǔn)需水量偏高，但生產(chǎn)效率較高。由于AⅢ型無水石膏是不穩(wěn)定相，在空氣中很容易吸潮而成半水相，因此系統(tǒng)中需設(shè)陳化冷卻裝置。高溫快速煅燒突出的優(yōu)點(diǎn)是設(shè)備投資低、生產(chǎn)效率高。