以活性炭與氟為原料，在裝有活性炭的反應爐中緩慢通入高濃氟氣，通過控制電加熱，供氟速率和冷卻反應爐來控制反應溫度。反應產物經過除塵、堿洗、脫水后，可獲得含CF4、C2F6、C3F8的粗品，然后把粗品混合物進行間歇低溫精餾，提取C2F6，再用分子篩進一步進行低溫吸附脫水，可獲得純度大于 %的C2F6。六氟乙烷可用于一種具多功能的蝕刻技術，常見于半導體之生產。它可用于金屬硅化物及金屬氧化物并相對其金屬基質的選擇性蝕刻。叧外，它亦用于蝕刻硅上的二氧化硅。六氟乙烷可連同三氟甲烷一起用于制冷劑R508A（六氟乙烷占61%）及R508B（六氟乙烷占54%）。