接觸式光刻機(jī)主要由對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、PLC電控系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)和附件箱等組成。


接觸式光刻機(jī)的使用原理：
其實(shí)在我國(guó)對(duì)于接觸式光刻機(jī)，曝光時(shí)掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優(yōu)點(diǎn)是可以使用價(jià)格較低的設(shè)備制造出較小的特征尺寸。
我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達(dá)到了小于 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率為 gm左右。接觸式光刻機(jī)的掩模版包括了要復(fù)制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一個(gè)由手動(dòng)控制的臺(tái)子上，臺(tái)子可以進(jìn)行X、y方向及旋轉(zhuǎn)的定位控制。
在操作過程中掩模版和襯底晶片需要通過分立視場(chǎng)的顯微鏡同時(shí)觀察，這樣操作者用手動(dòng)控制定位臺(tái)子就能把掩模版圖形和襯底晶片上的圖形對(duì)準(zhǔn)了。經(jīng)過紫外光曝光，光線通過掩模版透明的部分，圖形就轉(zhuǎn)移到了光刻膠上。接觸式光刻機(jī)的主要缺點(diǎn)是依賴于人操作，由于涂覆光刻膠的圓片與掩模的接觸會(huì)產(chǎn)生缺陷，每一次接觸過程，會(huì)在圓片和掩模上都造成一定的缺陷。因此，接觸式光刻機(jī)一般用于能容忍較高缺陷水平的器件研究和其他應(yīng)用方面。


接觸式光刻機(jī)的種類：
1、軟接觸：就是把基片通過托盤吸附住，掩膜蓋在基片上面；
2、硬接觸：是將基片通過一個(gè)氣壓，往上頂，使之與掩膜接觸；
3、真空接觸：是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合。


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