接觸式光刻機主要由對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統、PLC電控系統、氣動系統、真空管路系統、直聯式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。


接觸式光刻機的使用原理：
其實在我國對于接觸式光刻機，曝光時掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優點是可以使用價格較低的設備制造出較小的特征尺寸。
我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經達到了小于 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率為 gm左右。接觸式光刻機的掩模版包括了要復制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一個由手動控制的臺子上，臺子可以進行X、y方向及旋轉的定位控制。
在操作過程中掩模版和襯底晶片需要通過分立視場的顯微鏡同時觀察，這樣操作者用手動控制定位臺子就能把掩模版圖形和襯底晶片上的圖形對準了。經過紫外光曝光，光線通過掩模版透明的部分，圖形就轉移到了光刻膠上。接觸式光刻機的主要缺點是依賴于人操作，由于涂覆光刻膠的圓片與掩模的接觸會產生缺陷，每一次接觸過程，會在圓片和掩模上都造成一定的缺陷。因此，接觸式光刻機一般用于能容忍較高缺陷水平的器件研究和其他應用方面。


接觸式光刻機的種類：
1、軟接觸：就是把基片通過托盤吸附住，掩膜蓋在基片上面；
2、硬接觸：是將基片通過一個氣壓，往上頂，使之與掩膜接觸；
3、真空接觸：是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合。


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