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  • 上海青福機電設備有限公司
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    顆粒粒徑分析儀測量原理
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    產品介紹
    顆粒粒徑分析儀是一種用于測量和分析顆粒物體的粒徑(尺寸)分布的儀器。它可以應用于不同領域,如材料科學、環(huán)境監(jiān)測、食品工業(yè)、制藥等。


    顆粒粒徑分析儀可以使用多種測量原理進行粒徑分析,其中常見的包括:
    1.激光散射原理:通過激光束照射到樣品上,測量散射光的角度和強度變化,從而計算出顆粒的粒徑分布。
    2.動態(tài)光散射原理:利用顆粒在液體或氣體中的擴散運動,通過測量光散射的強度和時間變化,計算出粒徑分布。
    3.圖像分析原理:基于圖像處理技術,通過拍攝顆粒的圖像并分析其形狀和大小,得出粒徑分布。


    顆粒粒徑分析儀通常具有以下特點:
    1.快速:能夠快速地測量大量顆粒,并生成粒徑分布曲線或報告。
    2.寬尺寸范圍:能夠測量不同粒徑范圍的顆粒,從納米級到幾毫米甚至更大。
    3.自動化功能:一些顆粒粒徑分析儀配備自動進樣和數據處理功能,提高操作效率和減少人為誤差。
    4.多種參數測量:除了粒徑,還可以測量顆粒的形狀、濃度、表面電荷等參數。


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