膜厚儀是利用反射干涉的原理進行無損測量，可測量薄膜厚度及光學常數。測量精度達到埃級的分辯率，測量迅速，操作簡單，界面友好，是具X價比的膜厚測量儀設備。設備光譜測量范圍從近紅外到紫外線，凡是光滑的，透明或半透明的和所有半導體膜層都可以測量。


主要應用：
光學鍍層行業如：硬涂層，抗反射層等涂層厚度測量；
生物醫學行業如：Poly-p-xylene，YL器械等領域可透光涂層膜厚的測量；
半導體行業如：光刻膠的厚度測量；加工膜層的厚度測量，介電層的厚度測量等；
液晶顯示器行業如：OLED領域各種透明薄膜的厚度測量，玻璃上面涂層的厚度測量等。
便攜式光學膜厚儀的應用領域極其廣闊，適用于多種行業以及大學實驗室等，提供低至納米級別的薄膜厚度測量可能。


膜厚儀的功能：
1、操作過程有蜂鳴聲提示；
2、兩種關機方式：手動關機方式和自動關機方式；
3、電池電壓指示：低電壓提示；
4、微功耗設計，在待機裝態不到10微安的電流；
5、采用了磁性測厚方法，可測量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度；
6、可采用單點校準和兩點校準兩種方法對儀器進行校準；
7、負數顯示功能，保Z儀器零位點校準的準確性，提高測試精度。


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