揚中鋁氧化表面處理用水設備 反滲透去離子純水設備
原理



  反滲透是用足夠的壓力使溶液中的溶劑（一般常指水）通過反滲透膜（一種半透膜）而分離出來，方向與滲透方向相反，可使用大于滲透壓的反滲透法進行分離、提純和濃縮溶液。利用反滲透技術可以有效的去除水中的溶解鹽、膠體，細菌、病毒、細菌內毒素和大部分有機物等雜質。反滲透膜的主要分離對象是溶液中的離子范圍，無需化學品及可有效脫除水中鹽份，系統除鹽率一般為98%以上。
設備參數


原水：自來水、井水、地下水、中水；
進水壓 力： ~ ；
運行壓 力： ~ ；
脫鹽   率：＞99%；
控制：全自動控制/手自一體化自動切換；
產水量： 5~200T/H(根據客戶需求而定)；
材質：PVC/304/316L/FPR；

應用場合：
☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗
☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
☆高品質顯像管、螢光粉生產
☆實驗室和中試車間
☆汽車、家電表面拋光處理
☆光電產品、其他高科技精微產品
☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制





























☆ 集成電路生產中高純水清洗硅片


揚中鋁氧化表面處理用水設備 反滲透去離子純水設備