產品介紹
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SU- 8光刻膠是一個高對比度，環氧基光刻膠專為微加工和微電子等的應用需要的厚膠，化學和熱穩定的圖像. SU-8 2000是一種改進的配方的SU- 8，SU-8已被用于通過MEMS制造多年。使用更快的干燥技術，極性更大的溶劑的系統改進了涂層質量，并增加了處理量. SU- 8 2000有12個標準粘度. 膜厚度的 到> 200微米可以通過一個單一的涂層過程實現。曝光和隨后的膜熱交聯的部分不溶于液體顯影劑。 SU- 8光刻膠有質量穩定的成像特性，并能產生非常高的縱橫比結構。 SU- 8光刻膠具有非常高的光傳輸性高于360納米，這使得它非常適合在很厚的薄膜附近的垂直側壁成像。SU-8光刻膠很適合長久性應用中成像，固化并留在設備上.
SU-8 光刻膠 特點：
? 高縱橫比成像
? 至>200μm的膜厚在單一的涂層
? 改進涂料性能
? 快速干燥增加處理量
? 近紫外線（350-400nm）的處理
? 垂直側壁
Microchem SU-8 2025-2075-2150 同等轉速，厚度逐漸提高，可根據自己實驗需求選擇具體的型號。目前SU-8光刻膠有2000系類和3000系列兩類產品，3000系列升級后對光刻膠的粘附力，產品精度等性能進一步完善。
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