首先是真空蒸鍍。其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態薄膜的技術。
其次是濺射鍍膜。濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
第三，離子鍍膜，即干式螺桿真空泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術基礎上發展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發物或其反應物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。
第四，真空卷繞鍍膜。真空卷繞鍍膜是一種利用物理qi相沉積的方法在柔性基體上連續鍍膜的技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。
上述四種都屬于物理qi相沉積技術應用（PVD）。
接下來是化學氣相沉積（CVD）。它是以化學反應的方式制作薄膜，原理是一定溫度下，將含有制膜材料的反應氣體通到基片上并被吸附，在基片上產生化學反應形成核，隨后反應生成物脫離基片表面不斷擴散形成薄膜。
束流沉積鍍，結合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術的離子表面復合處理技術，是一種利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度下，形成具有良好特性薄膜的技術。
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