首先是真空蒸鍍。其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。
其次是濺射鍍膜。濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
第三，離子鍍膜，即干式螺桿真空泵廠家已經(jīng)介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來的，因此兼有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。
第四，真空卷繞鍍膜。真空卷繞鍍膜是一種利用物理qi相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。
上述四種都屬于物理qi相沉積技術(shù)應(yīng)用（PVD）。
接下來是化學(xué)氣相沉積（CVD）。它是以化學(xué)反應(yīng)的方式制作薄膜，原理是一定溫度下，將含有制膜材料的反應(yīng)氣體通到基片上并被吸附，在基片上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)形成核，隨后反應(yīng)生成物脫離基片表面不斷擴(kuò)散形成薄膜。
束流沉積鍍，結(jié)合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術(shù)的離子表面復(fù)合處理技術(shù)，是一種利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度下，形成具有良好特性薄膜的技術(shù)。
珂勒曦螺桿真空泵，單極突破 極限真空泵，可長時間運(yùn)行，并且針對國內(nèi)高溫差、高濕度、高粉塵環(huán)境做了針對性優(yōu)化，更適應(yīng)國內(nèi)的各類工況環(huán)境，實(shí)際應(yīng)用實(shí)現(xiàn)更低故障率，更低能耗，更高能效。廣泛應(yīng)用于電子光伏、包裝行業(yè)、真空模擬、風(fēng)洞實(shí)驗和造紙與印刷等各種生產(chǎn)行業(yè)。