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西瓜膜下微噴（滴灌）技術
西瓜坐果后，根系生長基本處于停頓狀態。因此應在西瓜生長前，中期促進根系生長，習慣適宜的灌溉方式有膜下微噴、膜下滴灌等。其中以膜下噴水帶較為普及。通常一行西瓜安裝一條微噴帶，孔口朝上，覆膜，砂土對流量要求不高，但黏土要求流量小，否則極易出現地表徑流。微噴帶的管徑的管徑與噴水帶的鋪設長度有關，以整條管帶的出水均勻度達到90%為宜。如采用滴灌帶，一種植行鋪設一條滴灌帶，覆膜或者直接鋪設在地面。滴頭間距30厘米，流量為2升每小時。
  西瓜定植后至采果期一直保持土壤30厘米的深度處于濕潤狀態。維持土壤均衡的水分狀態是防止裂瓜的重要措施。對土壤和砂土可以用簡單的指測法來判斷土壤的水分狀況。在微噴帶下取土，當土壤能抓捏成團或搓成泥條時表明水分充足，捏不成團散開表民土壤干燥。通常如果是滴灌每次灌溉2小時左右，如果是采用微噴帶噴灌20分鐘左右。在有 降雨的地方， 要起壟種植，及時排走積水。
  哈密瓜、甜瓜的水肥 技術與西瓜類似，水分和養分管理參考西瓜。