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工業鍍膜設備定制，質量優良的中頻磁控濺射鍍膜設備供應， 恒譽真空經過多年的經營發展，公司已經擁有一支頗具水準的經營團隊。生產的中頻磁控濺射鍍膜設備主要用于鍍膜，主要服務于廣東、肇慶地區。我們始終堅持“用心制造，誠信合作，品質經營”的營業理念，為廣大需求群體供應優異的產品，同時提高售后服務質量，提升客戶滿意程度。

多年的持續發展，恒譽真空的規模不斷發展壯大。我司供有完善的銷售和售后團隊的服務，已在需求群體中取得用戶廣泛的支持。公司注重產品質量，以及提供完善細致的服務，對于公司售出的中頻磁控濺射鍍膜設備，公司不僅會在雙方協商的時間內準時發貨，并且還提供產品售出后質保一年的售后服務。

工業鍍膜設備定制，

平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司自2012-07-23成立以來，專注于為需求群體提供好的中頻磁控濺射鍍膜設備。公司及時跟進潮流動態，立足新起點，開創新局面。擁有成熟的生產加工設備以及可靠的包裝生產流水線，新產品開發周期短、能力強，精度高，制造工藝成熟。歡迎廣大需求群體前來合作。

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