雙門光學鍍膜機廠家|可信賴的雙門光學鍍膜設備推薦， 我司屬于有限責任公司，坐落在肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側。公司要求員工“基本技能要掌握，可靠技能要求精”，其中也不乏高水平高技術工作人員。本公司自創立以來一直以質量和信譽為本，為廣大需求群體提供質優價廉的雙門光學鍍膜設備，并與諸多企業真誠合作，被廣大用戶所認知。

公司多年經營堅持求真務實，產品研發與更新勇于開拓創新，誠信守法、團結奉獻，愿與合作對象共同成長。我司本著誠信打造品質，品質決定未來的信念為廣大新老客戶提供質量可信賴，有口皆碑的雙門光學鍍膜設備，盡心為客戶提供產品售出后質保一年的售后服務。恒譽真空始終堅持不斷創新，以人為本。采用陸運;公路運輸（運費買賣雙方協商）的產品配送方式，為需求群體提供雙門光學鍍膜設備。

恒譽真空技術力量雄厚，生產設施齊全、檢測手段完善，多年來一直致力于雙門光學鍍膜設備的研發生產。公司始終以滿足客戶需求為主要目的，服務于廣東、肇慶各地區。雙門光學鍍膜設備主要用于鍍膜，能夠滿足各類用戶的需求，公司的誠信、實力和產品質量都獲得業界的認可。

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平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

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