恒譽真空|專業的直流磁控濺射鍍膜設備公司推薦
所在地:廣東省肇慶市
聯系人:宋生
價格:面議
品牌:恒譽,,,,
發布時間:2025-07-10
【產品詳情】恒譽真空|專業的直流磁控濺射鍍膜設備公司
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恒譽真空|的直流磁控濺射鍍膜設備公司推薦, 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司成立于2012-07-23,是一家可靠從事直流磁控濺射鍍膜設備經營銷售的有限責任公司。集研發、生產、銷售、服務于一體。產品應用領域廣泛,在機械和行業設備專用配件行業領域占有的市場,獲得了眾多用戶的好評。嚴格質量過程控制,合同交貨周期,至今已創下良好的信譽及口碑,以技術過硬、服務周到而享譽全國;廣東。
恒譽真空經過多年努力經營,如今已經發展成為一家擁有生產經營水準公司。公司大規模生產直流磁控濺射鍍膜設備,產品的庫存充足,服務于廣東肇慶地區。勇于創新、持續改善是企業文化的精髓。我們始終堅持“誠信合作制作,品質經營”的創業理念,為廣大客戶供應好的產品。
客戶下單后希望您能根據以下情況操作,直流磁控濺射鍍膜設備是銷售于中小企業的設備,如果是由于您本身操作不當損壞,該情況不在我司售后服務范圍里面,損壞產件如需要維修你也可以把產品寄到廣東肇慶進行有償維修。歡迎致電。
恒譽真空,
磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同,大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等,兩極磁力線閉合于靶面,很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,增加碰撞幾率,提高了離化效率,因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電,靶材利用率相對較高,但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面,基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念,即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極,兩極磁力線在靶面不完全閉合,部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域,從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片,增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構,同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備,多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時接地技術很復雜,因而難大規模采用。為解決此問題,發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶,加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化,與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面,也發生在陽極,真空腔體表面,以及靶源表面。從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術,很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源(磁控,多弧,離子)所必需,因為能量很大一部分轉為熱量,若無冷卻或冷卻不足,這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。
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