真空鍍膜機_大量供應優良的立式蒸發鍍膜設備， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司擁有一支經驗豐富、實力過硬的生產銷售隊伍，專注于立式蒸發鍍膜設備的生產和研發，自成立以來，始終把客戶的利益放在靠前，不斷引進吸收國內外同行的設計理念和制造技術，在機械和行業設備專用配件行業中成績顯著，并積極為客戶開發低成本，高生產效率，滿足客戶需要的新產品。公司立志為廣大中小企業提供優異的立式蒸發鍍膜設備產品，始終堅持誠信和互惠原則，堅持用真誠的服務去打動客戶。

多年來，我公司以市場為導向，不斷開發新立式蒸發鍍膜設備，以適應時刻變化的市場和廣大用戶的需要。生產的產品主要以批發;零售;面向全國;廣東、肇慶供應。我司相信沒有品質，便沒有企業的明天，采用陸運;公路運輸發送貨物，以質優、價廉、工期短、售后服務周到贏得廣大用戶的信賴。

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平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

恒譽真空擁有高素質技術人員，以及強大的銷售團隊。以企業綜合實力為基礎，建立現代化率機制，不斷加強企業管理，提高經營效益生產立式蒸發鍍膜設備，產品質量保證，經久耐用，具有塑料、玻璃制器（玩具、服飾、汽車、手機等行業）的表面金屬化處理，提高產品的美觀性，或改變表面的光電性能的用途。我司樹立“好服務是生命，企業滿意是目的”的服務原則，在全國;廣東、肇慶深受廣大中小企業的認可與好評。

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