產品庫

高真鍍膜設備|性能可靠的蒸發式卷繞鍍膜設備在哪買， 恒譽真空建立高起點、高目標、高質量、率、有效益的“五高”標準，鍛造出質量良好的產品，獲得廣闊的銷售市場。供應的蒸發式卷繞鍍膜設備主要用于鍍膜加工，在廣東、肇慶區域范圍內受到廣大需求群體的青睞。公司憑借良好的信譽，雄厚的實力，好的產品，低廉的價格服務于廣大用戶。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司自2012-07-23成立以來，專注于為需求群體提供好的蒸發式卷繞鍍膜設備。公司及時跟進潮流動態，立足新起點，開創新局面。擁有成熟的生產加工設備以及可靠的包裝生產流水線，新產品開發周期短、能力強，精度高，制造工藝成熟。歡迎廣大需求群體前來合作。

高真鍍膜設備，

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

多年的持續發展，恒譽真空的規模不斷發展壯大。我司供有完善的銷售和售后團隊的服務，已在需求群體中取得用戶廣泛的支持。公司注重產品質量，以及提供完善細致的服務，對于公司售出的蒸發式卷繞鍍膜設備，公司不僅會在雙方協商的時間內準時發貨，并且還提供產品售出后質保一年的售后服務。

高真鍍膜設備|性能可靠的蒸發式卷繞鍍膜設備在哪買， “追求”長期是我們的主題，我們將勵精圖治，再創佳績，力爭上游。我司經營優良的蒸發式卷繞鍍膜設備，產品質量優異，也為需求群體提供多方位的服務。恒譽真空堅持用誠信謀發展，對設備質量要求嚴格，設有可靠的技術人員負責質量把關，受到廣大需求群體的支持。歡迎有意向的客戶前來參觀指導合作！地址：肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側

如果您對我們的產品及服務有興趣，想要進一步了解高真鍍膜設備，鍍膜機批發，鍍膜機廠家加工請聯系我們