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鍍鋁機，恒譽真空提供實惠的立式蒸發(fā)鍍膜設備， 肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術有限公司坐落于肇慶市高要區(qū)金渡鎮(zhèn)世紀大道交警中隊西側，于2012-07-23創(chuàng)辦，自成立以來就致力于立式蒸發(fā)鍍膜設備的生產與經營銷售。公司擁有一大批可靠技術人才，充分滿足廣大中小企業(yè)對產品的需求，為客戶供應市場上好的立式蒸發(fā)鍍膜設備。

恒譽真空建立高起點、高目標、高質量、率、有效益的“五高”標準，鍛造出質量良好的產品，獲得廣闊的銷售市場。供應的立式蒸發(fā)鍍膜設備主要用于塑料、玻璃制器（玩具、服飾、汽車、手機等行業(yè)）的表面金屬化處理，提高產品的美觀性，或改變表面的光電性能，在廣東、肇慶區(qū)域范圍內受到廣大中小企業(yè)的青睞。公司憑借良好的信譽，雄厚的實力，好的產品，低廉的價格服務于廣大用戶。

公司產品配套設施齊全，價格頗具市場競爭優(yōu)勢，性能適應于國內外市場的需求，深受廣大中小企業(yè)的青睞和好評。經過多年的發(fā)展，恒譽真空以其雄厚的科技力量、豐富的生產經驗，以及嚴格的質量管理享譽業(yè)內。恒譽真空溫馨提示廣大中小企業(yè)：在您以銀行轉賬的方式付款后，我們提供的立式蒸發(fā)鍍膜設備將在雙方協(xié)商的時間內發(fā)貨。

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磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。平衡態(tài)磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

鍍鋁機，恒譽真空提供實惠的立式蒸發(fā)鍍膜設備， 恒譽真空是自主從事立式蒸發(fā)鍍膜設備的研發(fā)、設計、生產及銷售的企業(yè)，致力于為市場提供立式蒸發(fā)鍍膜設備的多方位服務。公司專門引進了成熟的流水線生產裝配和成熟技術的檢驗檢測設備，引入了行業(yè)可靠的技術和管理人才。在多年的機械和行業(yè)設備專用配件領域實踐中，積累了豐富的實際操作經。我們公司的地址在肇慶市高要區(qū)金渡鎮(zhèn)世紀大道交警中隊西側，歡迎廣大中小企業(yè)前來參觀指導。

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