真空電鍍機_肇慶好用的真空爐體閥門哪里買
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肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術有限公司成立于2012-07-23,是一家機械和行業(yè)設備專用配件各類產(chǎn)品,其中真空爐體閥門為公司主導產(chǎn)品。憑借成熟的生產(chǎn)設備及可靠的經(jīng)營管理模式,公司產(chǎn)品以有品質、高價值銷售于全國;廣東,深受需求群體的歡迎。
公司產(chǎn)品配套設施齊全,價格頗具市場競爭優(yōu)勢,性能適應于國內外市場的需求,深受廣大需求群體的青睞和好評。經(jīng)過多年的發(fā)展,恒譽真空以其雄厚的科技力量、豐富的生產(chǎn)經(jīng)驗,以及嚴格的質量管理享譽業(yè)內。恒譽真空溫馨提示廣大需求群體:在您以在線支付;現(xiàn)金支付;銀行轉賬的方式付款后,我們提供的真空爐體閥門將在雙方協(xié)商的時間內發(fā)貨。
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平衡態(tài)磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等,兩極磁力線閉合于靶面,很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,增加碰撞幾率,提高了離化效率,因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電,靶材利用率相對較高,但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面,基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念,即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極,兩極磁力線在靶面不完全閉合,部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域,從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片,增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構,同時濺射速率要減小。
旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備,多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時接地技術很復雜,因而難大規(guī)模采用。為解決此問題,發(fā)明了磁控反應濺射。就是用金屬靶,加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化,與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。
主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面,也發(fā)生在陽極,真空腔體表面,以及靶源表面。從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術,很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源(磁控,多弧,離子)所必需,因為能量很大一部分轉為熱量,若無冷卻或冷卻不足,這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。
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