產品庫

鍍膜機定制_優惠的直流磁控濺射鍍膜設備恒譽真空供應， 能為廣大客戶服務是我司的榮幸，我司提供的直流磁控濺射鍍膜設備在生產制造中，有專人監管，對每批產品進行嚴格把關，產品質量可靠。直流磁控濺射鍍膜設備以中小企業為主要銷售對象，有很好的口碑。恒譽真空同樣將以更優的品質、更滿意的服務、更合理的價格回饋廣大客戶。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司，成立于2012-07-23，經過時間的歷練與快速發展，造就今日恒譽真空產品質量的基礎。我司堅持以人為本，誠信務實，創新進取，回報社會。供應的直流磁控濺射鍍膜設備，全部采用的生產原料，產品質量值得信賴，廣大客戶可放心使用。

直流磁控濺射鍍膜設備是恒譽真空重要推廣的產品，也是銷售形勢較好的產品。恒譽真空采用批發;零售;的方式進行市場開拓。“顧客至上，改革求實，以人為本，團結進取”是我司踐行的公司文化。如您參與我司業務合作，可采用銀行轉賬的方式付款，我們還提供產品售出后質保一年的售后服務。

鍍膜機定制，

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

鍍膜機定制_優惠的直流磁控濺射鍍膜設備恒譽真空供應， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司的發展離不開社會各界的關心與支持。回顧過去，展望未來，恒譽真空將不斷努力為中小企業提供好的直流磁控濺射鍍膜設備。公司實施可靠化、集約化的經營策略，發揮公司各方面的優勢，專注發展機械五金產業。憑借多年經驗，整合有效的解決方案，最終提升客戶價值，實現雙贏。我們愿與您攜手合作，共創美好明天。歡迎各界朋友蒞臨指導！地址肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側。

以上是肇慶直流磁控濺射鍍膜設備，價位合理的直流磁控濺射鍍膜設備，鍍膜機定制，廠家供應廣東磁控濺射鍍膜機的詳細信息，如果你對我們的產品/服務有疑問，請聯系我們