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鍍膜機價格，大量供應好用的磁控濺射卷繞鍍膜設備， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司成立于2012-07-23，是一家可靠從事磁控濺射卷繞鍍膜設備經營銷售的有限責任公司。集研發、生產、銷售、服務于一體。產品應用領域廣泛，在機械和行業設備專用配件行業領域占有的市場，獲得了眾多用戶的好評。嚴格質量過程控制，合同交貨周期，至今已創下良好的信譽及口碑，以技術過硬、服務周到而享譽全國。

恒譽真空建立高起點、高目標、高質量、率、有效益的“五高”標準，鍛造出質量良好的產品，獲得廣闊的銷售市場。供應的磁控濺射卷繞鍍膜設備主要用于鏡片，鏡頭，飾品等表面鍍膜，能起到增透、濾光、裝飾等功效，在廣東肇慶區域范圍內受到廣大中小企業的青睞。公司憑借良好的信譽，雄厚的實力，好的產品，低廉的價格服務于廣大用戶。

多年的持續發展，恒譽真空的規模不斷發展壯大。我司供有完善的銷售和售后團隊的服務，已在中小企業中取得用戶廣泛的支持。公司注重產品質量，以及提供完善細致的服務，對于公司售出的磁控濺射卷繞鍍膜設備，公司不僅會在雙方協商的時間內準時發貨，并且還提供產品售出后質保一年的售后服務。

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磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

鍍膜機價格，大量供應好用的磁控濺射卷繞鍍膜設備， 恒譽真空是自主從事磁控濺射卷繞鍍膜設備的研發、設計、生產及銷售的企業，致力于為市場提供磁控濺射卷繞鍍膜設備的多方位服務。公司專門引進了成熟的流水線生產裝配和成熟技術的檢驗檢測設備，引入了行業可靠的技術和管理人才。在多年的機械和行業設備專用配件領域實踐中，積累了豐富的實際操作經。我們公司的地址在肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側，歡迎廣大中小企業前來參觀指導。

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