車燈保護膜機|好的雙門光學鍍膜設備推薦， 恒譽真空技術力量雄厚，生產設施齊全、檢測手段完善，多年來一直致力于雙門光學鍍膜設備的研發生產。公司始終以滿足客戶需求為主要目的，服務于廣東、肇慶各地區。雙門光學鍍膜設備主要用于鍍膜，能夠滿足各類用戶的需求，公司的誠信、實力和產品質量都獲得業界的認可。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司于2012-07-23在肇慶市注冊成立，主營雙門光學鍍膜設備，品種多樣、價格公道，并與多家零售商和代理商建立了長期穩定的合作關系。公司奉行“發展為本、效益至上、回饋員工、奉獻社會”的宗旨，為企業自身、員工及社會謀發展。企業實力雄厚，重信用、守合同、保證產品質量，以多品種經營特色和薄利多銷的經營原則，贏得了廣大需求群體的信任。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司以“打造行業好，滿足客戶的可靠需求”為使命，產品質量、品質都可圈可點。公司不斷開拓創新，通過自身的改變來迎合市場和客戶。以技術為核心、視質量為生命、奉用戶為上帝，竭誠為您提供性價比好的光學鍍膜設備產品。恒譽真空立足當下，創造未來，提供的雙門光學鍍膜設備為滿足廣大需求群體的不同需求，我們的業務范圍拓展至了全國;廣東、肇慶各地。

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平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

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