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立式蒸發(fā)鍍膜設(shè)備定制|耐用的立式蒸發(fā)鍍膜設(shè)備供應(yīng)， 恒譽真空經(jīng)過多年努力經(jīng)營，如今已經(jīng)發(fā)展成為一家擁有生產(chǎn)經(jīng)營水準(zhǔn)公司。公司大規(guī)模生產(chǎn)立式蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，產(chǎn)品的庫存充足，服務(wù)于廣東、肇慶地區(qū)。勇于創(chuàng)新、持續(xù)改善是企業(yè)文化的精髓。我們始終堅持“誠信合作制作，品質(zhì)經(jīng)營”的創(chuàng)業(yè)理念，為廣大客戶供應(yīng)好的產(chǎn)品。

立式蒸發(fā)鍍膜設(shè)備定制，

平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，同時濺射速率要減小。

旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮氣或氧氣。當(dāng)金屬靶材撞向零件時由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉(zhuǎn)為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

恒譽真空秉承“精益求精、自主創(chuàng)新”的精神，不僅在立式蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的生產(chǎn)及銷售領(lǐng)域走自主創(chuàng)新之路，在服務(wù)方面更是不懈追求有品質(zhì)。立式蒸發(fā)鍍膜設(shè)備一直采用批發(fā);零售;的方式出售，公司全心為客戶服務(wù)，產(chǎn)品在銷售后都可提供產(chǎn)品售出后質(zhì)保一年的售后服務(wù)，免除中小企業(yè)選購本司產(chǎn)品的后顧之憂。

肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術(shù)有限公司成立于2012-07-23，是一家機械和行業(yè)設(shè)備專用配件各類產(chǎn)品，其中立式蒸發(fā)鍍膜設(shè)備為公司主導(dǎo)產(chǎn)品。憑借成熟的生產(chǎn)設(shè)備及可靠的經(jīng)營管理模式，公司產(chǎn)品以有品質(zhì)、高價值銷售于全國;廣東、肇慶，深受中小企業(yè)的歡迎。

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