產(chǎn)品庫(kù)

恒譽(yù)真空_價(jià)位合理的真空爐體閥門，傾力推薦，恒譽(yù)真空， 恒譽(yù)真空綜合實(shí)力雄厚，技術(shù)水平高，售后服務(wù)完善。公司勤于市場(chǎng)發(fā)展需求，致力于打造真空爐體閥門生產(chǎn)、銷售集成式服務(wù)，該產(chǎn)品用于鍍膜加工，因質(zhì)量、生產(chǎn)工藝等方面言語(yǔ)，頗受需求群體歡迎，并且在全國(guó);廣東極為好銷售，產(chǎn)品種類、型號(hào)等可根據(jù)客戶要求供應(yīng)。

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平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對(duì)較高，但由于電子沿磁力線運(yùn)動(dòng)主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴(kuò)展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。但旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。

旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場(chǎng)靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問(wèn)題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕狻．?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易，而實(shí)際操作困難。

主要問(wèn)題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽(yáng)極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國(guó)萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個(gè)問(wèn)題。其原理是一對(duì)靶源互相為陰陽(yáng)極，從而消除陽(yáng)極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因?yàn)槟芰亢艽笠徊糠洲D(zhuǎn)為熱量，若無(wú)冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個(gè)靶源。

以嚴(yán)格的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)控制，滿足顧客對(duì)產(chǎn)品實(shí)物質(zhì)量的期望和要求。規(guī)范化的質(zhì)量管理滲透于每一個(gè)生產(chǎn)環(huán)節(jié)，完善的售后服務(wù)解除了每個(gè)用戶的后顧之憂。肇慶市高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司出售的真空爐體閥門質(zhì)量有保障，對(duì)于售出的真空爐體閥門，我們會(huì)在雙方協(xié)商的時(shí)間內(nèi)發(fā)貨，并提供產(chǎn)品售出后質(zhì)保一年的售后服務(wù)。

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