產品庫

七彩機，供應廣東的直流磁控濺射鍍膜設備， 恒譽真空擁有高素質技術人員，以及強大的銷售團隊。以企業綜合實力為基礎，建立現代化率機制，不斷加強企業管理，提高經營效益生產直流磁控濺射鍍膜設備，產品質量保證，經久耐用，具有通過磁控濺射的方法能在工件表面鍍制各種金屬，或其化合物膜層，以達到改變其光電磁性能或起到裝飾性功效的用途。我司樹立“好服務是生命，企業滿意是目的”的服務原則，在全國;廣東深受廣大中小企業的認可與好評。

恒譽真空擁有成熟的生產制造設備，雄厚的科學技術力量，以及現代化的質量檢測手段和完善的售后服務。通過嚴格的產品管理體系，公司有著良好的企業信譽，產品遍布全國;廣東各地。本公司通過批發;零售;的銷售方式將的直流磁控濺射鍍膜設備供應給機械和行業設備專用配件市場，我們的產品優異，價格公道，請您放心購買。

七彩機，

磁控濺射

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。

隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

磁控濺射種類

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。

多方位發展的肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主營直流磁控濺射鍍膜設備，集研發、生產、銷售于一體。自成立以來，就具備良好的方案設計、項目策劃能力，提供流程規范化整體方案解決服務，在機械和行業設備專用配件行業領域保持較高地位。公司以良好的信譽、優異的產品等雄厚的綜合實力享譽全國;廣東各地，產品也深得用戶信賴。

七彩機，供應廣東的直流磁控濺射鍍膜設備， 恒譽真空一慣奉行互惠互利、誠實守信和積極開拓的精神，以優異的直流磁控濺射鍍膜設備，優良的服務、公平的價格贏得市場，恒譽真空攜全體員工熱忱歡迎您前來光臨指導，竭誠感謝您的厚愛和惠顧。公司地址肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側

如果您對我們的七彩機，鈦金爐，鍍膜設備廠家感興趣，可隨時撥打肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司聯系熱線詳細了解