產(chǎn)品庫

真空卷繞鍍膜設備廠家，肇慶實惠的卷繞鍍膜機批售， 肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術有限公司成立于2012-07-23，是一家機械和行業(yè)設備專用配件各類產(chǎn)品，其中卷繞鍍膜機為公司主導產(chǎn)品。憑借成熟的生產(chǎn)設備及可靠的經(jīng)營管理模式，公司產(chǎn)品以有品質、高價值銷售于全國;廣東，深受需求群體的歡迎。

恒譽真空經(jīng)過多年努力經(jīng)營，如今已經(jīng)發(fā)展成為一家擁有生產(chǎn)經(jīng)營水準公司。公司大規(guī)模生產(chǎn)卷繞鍍膜機，產(chǎn)品的庫存充足，服務于廣東、肇慶地區(qū)。勇于創(chuàng)新、持續(xù)改善是企業(yè)文化的精髓。我們始終堅持“誠信合作制作，品質經(jīng)營”的創(chuàng)業(yè)理念，為廣大客戶供應好的產(chǎn)品。

以嚴格的質量標準控制，滿足顧客對產(chǎn)品實物質量的期望和要求。規(guī)范化的質量管理滲透于每一個生產(chǎn)環(huán)節(jié)，完善的售后服務解除了每個用戶的后顧之憂。肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術有限公司出售的卷繞鍍膜機質量有保障，對于售出的卷繞鍍膜機，我們會在雙方協(xié)商的時間內(nèi)發(fā)貨，并提供產(chǎn)品售出后質保一年的售后服務。

真空卷繞鍍膜設備廠家，

磁控濺射

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，而上世紀 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現(xiàn)高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用，產(chǎn)生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現(xiàn)了高的沉積速率。

隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

磁控濺射種類

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。

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