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恒譽真空，報價合理的直流磁控濺射鍍膜設備恒譽真空供應， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司坐落于肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側，于2012-07-23創辦，自成立以來就致力于直流磁控濺射鍍膜設備的生產與經營銷售。公司擁有一大批可靠技術人才，充分滿足廣大中小企業對產品的需求，為客戶供應市場上好的直流磁控濺射鍍膜設備。

恒譽真空供應的直流磁控濺射鍍膜設備已實現批發銷售規模化。直流磁控濺射鍍膜設備在國內多個工程項目中出現了它的身影，在全國;廣東等地區收獲一致好評。公司的銷售網絡覆蓋多個省市地區證明了產品能夠適應國內的機械和行業設備專用配件市場。憑借產品本身的質量優勢，和產品售出后質保一年的售后服務贏得了廣大客戶對產品的認可。

恒譽真空，

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

恒譽真空以有效生產直流磁控濺射鍍膜設備為主營方向，產品很好的詮釋其通過磁控濺射的方法能在工件表面鍍制各種金屬，或其化合物膜層，以達到改變其光電磁性能或起到裝飾性功效的用途，主要銷售往全國;廣東等地區。依靠完善、機制健全、不斷強化的服務理念，為了方便廣大中小企業，我司盡心盡力提供完善的售后服務，也因此受到需求客戶一致的好評與贊譽。

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