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立式蒸發鍍膜機定制，恒譽真空供應價位合理的立式蒸發鍍膜設備， 多方位發展的肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主營立式蒸發鍍膜設備，集研發、生產、銷售于一體。自成立以來，就具備良好的方案設計、項目策劃能力，提供流程規范化整體方案解決服務，在機械和行業設備專用配件行業領域保持較高地位。公司以良好的信譽、優異的產品等雄厚的綜合實力享譽全國;廣東、肇慶各地，產品也深得用戶信賴。

恒譽真空經過多年的經營發展，公司已經擁有一支頗具水準的經營團隊。生產的立式蒸發鍍膜設備主要用于塑料、玻璃制器（玩具、服飾、汽車、手機等行業）的表面金屬化處理，提高產品的美觀性，或改變表面的光電性能，主要服務于廣東、肇慶地區。我們始終堅持“用心制造，誠信合作，品質經營”的營業理念，為廣大中小企業供應優異的產品，同時提高售后服務質量，提升客戶滿意程度。

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磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

恒譽真空供應的立式蒸發鍍膜設備已實現批發銷售規模化。立式蒸發鍍膜設備在國內多個工程項目中出現了它的身影，在全國;廣東、肇慶等地區收獲一致好評。公司的銷售網絡覆蓋多個省市地區證明了產品能夠適應國內的機械和行業設備專用配件市場。憑借產品本身的質量優勢，和產品售出后質保一年的售后服務贏得了廣大客戶對產品的認可。

立式蒸發鍍膜機定制，恒譽真空供應價位合理的立式蒸發鍍膜設備， 真誠為客戶提供好的產品，周到細致的服務是肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司一直奉行的銷售準則，使得公司銷售的立式蒸發鍍膜設備在機械和行業設備專用配件行業中有著強大的競爭優勢。我司通過多年在本行業的不斷研究，以及對公司產品品質的堅持，已贏得廣大中小企業一致肯定。本公司將以“面向客戶，適應市場”為導向，力求價格讓用戶滿意，產品質量得客戶肯定。

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