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    真空電鍍機-恒譽真空提供優(yōu)惠的立式蒸發(fā)鍍膜設備

    供應商:肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術有限公司【公司商鋪】

    所在地:廣東省肇慶市

    聯(lián)系人:宋生

    價格:面議

    品牌:恒譽,,,,

    發(fā)布時間:2025-04-14

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    【產(chǎn)品詳情】真空電鍍機-恒譽真空提供優(yōu)惠的立式蒸發(fā)鍍

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    平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等,兩極磁力線閉合于靶面,很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,增加碰撞幾率,提高了離化效率,因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電,靶材利用率相對較高,但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面,基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念,即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極,兩極磁力線在靶面不完全閉合,部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域,從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片,增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機構,同時濺射速率要減小。

    旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備,多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時接地技術很復雜,因而難大規(guī)模采用。為解決此問題,發(fā)明了磁控反應濺射。就是用金屬靶,加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉(zhuǎn)化,與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。

    主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面,也發(fā)生在陽極,真空腔體表面,以及靶源表面。從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術,很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源(磁控,多弧,離子)所必需,因為能量很大一部分轉(zhuǎn)為熱量,若無冷卻或冷卻不足,這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

    面對變化,理性對待,充分溝通,誠意配合。肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術有限公司擁有有效的服務效率和好的產(chǎn)品質(zhì)量,生產(chǎn)供應立式蒸發(fā)鍍膜設備,充分了解客戶所需,不斷改進客戶所要求的產(chǎn)品性能。公司屹立于機械和行業(yè)設備專用配件領域已多年,為解決立式蒸發(fā)鍍膜設備更新問題,公司會虛心采納顧客的意見,依靠成熟的生產(chǎn)技術和嚴格的管理機制,為用戶提供有效的產(chǎn)品。

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