光學鍍膜機-如何買好用的雙門光學鍍膜設備
所在地:廣東省肇慶市
聯系人:宋生
價格:面議
品牌:恒譽,,,,
發布時間:2025-04-11
【產品詳情】光學鍍膜機-如何買好用的雙門光學鍍膜設備
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光學鍍膜機,如何買好用的雙門光學鍍膜設備, 恒譽真空主要從事雙門光學鍍膜設備的研發與生產,創新技術,規范管理,目前已經成為生產雙門光學鍍膜設備的主流企業之一。我公司供應的產品主要銷往全國;廣東、肇慶,產品性能優異,受到需求群體的一致好評。公司秉持著“用戶至上,重視需求”的理念,精益求精、不斷創新,以良好的產品品質,完善的售后服務回報廣大用戶。
“優異的產品、成熟的技術、盡善盡美的服務”是恒譽真空所有職員的追求目標,作為可靠從事雙門光學鍍膜設備的供應商,長期為需求群體提供成熟技術和良好服務,倡導綠色環保節能,高能和諧發展。公司不斷的整合企業資源,以可靠、節能、環保的雙門光學鍍膜設備滿足需求群體各方位的需求。
光學鍍膜機,
磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同,大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等,兩極磁力線閉合于靶面,很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,增加碰撞幾率,提高了離化效率,因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電,靶材利用率相對較高,但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面,基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念,即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極,兩極磁力線在靶面不完全閉合,部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域,從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片,增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構,同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備,多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時接地技術很復雜,因而難大規模采用。為解決此問題,發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶,加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化,與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面,也發生在陽極,真空腔體表面,以及靶源表面。從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術,很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源(磁控,多弧,離子)所必需,因為能量很大一部分轉為熱量,若無冷卻或冷卻不足,這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。
公司經過多年的運行發展,已形成了自有的產品營銷方式,生產的雙門光學鍍膜設備主要是以批發;零售;的方式銷售。產品種類齊全,質量優異,良好的檢測管理使得產品的質量有口皆碑,讓廣大用戶滿意。由于我們優異的產品質量,良好的市場信譽和超凡的技術實力,供應的雙門光學鍍膜設備您可放心購置,我們支持在線支付;銀行轉賬的方式付款,并且會在雙方協商的時間內將產品使用陸運;公路運輸為您配送。
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