產(chǎn)品庫

恒譽真空，廠家磁控濺射卷繞鍍膜設備， 肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術有限公司創(chuàng)立伊始，規(guī)模逐步發(fā)展壯大，憑著過硬的生產(chǎn)技術、豐富的管理經(jīng)驗，好的客戶服務和良好的企業(yè)信譽，在機械和行業(yè)設備專用配件行業(yè)不斷進步。在短時間內完成了企業(yè)創(chuàng)建、完善、發(fā)展完善的過程，磁控濺射卷繞鍍膜設備市場廣闊，產(chǎn)品已經(jīng)銷售到全國。

恒譽真空為了保障磁控濺射卷繞鍍膜設備品質的可靠和穩(wěn)定，維護產(chǎn)品口碑，恒譽真空嚴格按照國際質量管理體系認證進行生產(chǎn)，并以嚴格的產(chǎn)品質量管理模式推行科學管理。我司的磁控濺射卷繞鍍膜設備在市場上的占有率正穩(wěn)步提高，我們生產(chǎn)的產(chǎn)品具有鏡片，鏡頭，飾品等表面鍍膜，能起到增透、濾光、裝飾等功效的用途，在全國受到一致支持與認可。

恒譽真空秉承“精益求精、自主創(chuàng)新”的精神，不僅在磁控濺射卷繞鍍膜設備的生產(chǎn)及銷售領域走自主創(chuàng)新之路，在服務方面更是不懈追求有品質。磁控濺射卷繞鍍膜設備一直采用批發(fā);零售;的方式出售，公司全心為客戶服務，產(chǎn)品在銷售后都可提供產(chǎn)品售出后質保一年的售后服務，免除中小企業(yè)選購本司產(chǎn)品的后顧之憂。

恒譽真空，

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。平衡態(tài)磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

恒譽真空，廠家磁控濺射卷繞鍍膜設備， 恒譽真空為做好服務和提高市場份額，先后在廣東肇慶等地開展產(chǎn)品宣傳活動，為公司的發(fā)展奠定基礎。磁控濺射卷繞鍍膜設備占有的市場份額還有很大提升空間，歡迎周邊地區(qū)相關代理商致電咨詢。肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術有限公司追求公司持續(xù)穩(wěn)定發(fā)展，努力提升公司價值，實現(xiàn)更大的經(jīng)濟效益。期待您的加入，讓我們攜手共創(chuàng)更輝煌的明天！

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