產(chǎn)品庫

鍍膜設(shè)備加工，大量供應(yīng)質(zhì)量優(yōu)的蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備， 肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術(shù)有限公司成立于2012-07-23，是一家機械和行業(yè)設(shè)備專用配件各類產(chǎn)品，其中蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備為公司主導(dǎo)產(chǎn)品。憑借成熟的生產(chǎn)設(shè)備及可靠的經(jīng)營管理模式，公司產(chǎn)品以有品質(zhì)、高價值銷售于全國;廣東、肇慶，深受需求群體的歡迎。

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能為廣大客戶服務(wù)是我司的榮幸，我司提供的蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備在生產(chǎn)制造中，有專人監(jiān)管，對每批產(chǎn)品進(jìn)行嚴(yán)格把關(guān)，產(chǎn)品質(zhì)量可靠。蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備以需求群體為主要銷售對象，有很好的口碑。恒譽真空同樣將以更優(yōu)的品質(zhì)、更滿意的服務(wù)、更合理的價格回饋廣大客戶。

鍍膜設(shè)備加工，

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，而上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現(xiàn)高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用，產(chǎn)生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

鍍膜設(shè)備加工，大量供應(yīng)質(zhì)量優(yōu)的蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備， 真誠為客戶提供好的產(chǎn)品，周到細(xì)致的服務(wù)是肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術(shù)有限公司一直奉行的銷售準(zhǔn)則，使得公司銷售的蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備在機械和行業(yè)設(shè)備專用配件行業(yè)中有著強大的競爭優(yōu)勢。我司通過多年在本行業(yè)的不斷研究，以及對公司產(chǎn)品品質(zhì)的堅持，已贏得廣大需求群體一致肯定。本公司將以“面向客戶，適應(yīng)市場”為導(dǎo)向，力求價格讓用戶滿意，產(chǎn)品質(zhì)量得客戶肯定。

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