產(chǎn)品庫

鍍膜設(shè)備廠家|恒譽(yù)真空質(zhì)量可靠的硬質(zhì)膜鍍膜設(shè)備出售， 恒譽(yù)真空強(qiáng)化競爭意識，營造團(tuán)隊精神。采取機(jī)械和行業(yè)設(shè)備專用配件行業(yè)中的傲人成績，創(chuàng)造了同行業(yè)中的商業(yè)奇跡，這當(dāng)然源于公司對產(chǎn)品質(zhì)量的不懈追求，力求將有品質(zhì)且具有能在各種五金件表面鍍制各種顏色的裝飾性膜層用途的硬質(zhì)膜鍍膜設(shè)備奉獻(xiàn)給廣大客戶群眾。

由我公司自主生產(chǎn)的硬質(zhì)膜鍍膜設(shè)備，是經(jīng)機(jī)械和行業(yè)設(shè)備專用配件行業(yè)專家鑒定后評定為的產(chǎn)品，享譽(yù)業(yè)界。我們堅持公司內(nèi)部建立的任何組織，流程，制度都建立在為客戶提供更良好的服務(wù)的基礎(chǔ)上，為了讓客戶能夠快速的收到貨物，我們采取的是陸運(yùn);公路運(yùn)輸?shù)奈锪鞣绞竭M(jìn)行配送，在全國;廣東、肇慶擁有眾多客戶。

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平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運(yùn)動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴(kuò)展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時濺射速率要減小。

旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕狻．?dāng)金屬靶材撞向零件時由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉(zhuǎn)為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個靶源。

肇慶市高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司創(chuàng)始于2012-07-23。在競爭日益激烈的機(jī)械和行業(yè)設(shè)備專用配件行業(yè)中發(fā)憤圖強(qiáng)、積極進(jìn)取、力爭上游，創(chuàng)辦至今已為廣大需求群體提供了數(shù)不勝數(shù)的好品質(zhì)硬質(zhì)膜鍍膜設(shè)備，好的產(chǎn)品品質(zhì)獲得了需求群體一致肯定，在消費(fèi)者中有口皆碑。

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