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光學(xué)鍍膜機(jī)定制_肇慶規(guī)模大的雙門光學(xué)鍍膜設(shè)備廠家推薦， 肇慶市高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司是主要從事雙門光學(xué)鍍膜設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的技術(shù)生產(chǎn)企業(yè)之一。擁有多年經(jīng)營經(jīng)驗，綜合實力雄厚。以銷售為主營方向，產(chǎn)品廣泛銷售于全國;廣東、肇慶。秉承以客戶價值為依歸的經(jīng)營理念，立足客戶需求，始終保持積極穩(wěn)健的發(fā)展。

公司多年經(jīng)營堅持求真務(wù)實，產(chǎn)品研發(fā)與更新勇于開拓創(chuàng)新，誠信守法、團(tuán)結(jié)奉獻(xiàn)，愿與合作對象共同成長。我司本著誠信打造品質(zhì)，品質(zhì)決定未來的信念為廣大新老客戶提供質(zhì)量可信賴，有口皆碑的雙門光學(xué)鍍膜設(shè)備，盡心為客戶提供產(chǎn)品售出后質(zhì)保一年的售后服務(wù)。恒譽(yù)真空始終堅持不斷創(chuàng)新，以人為本。采用陸運(yùn);公路運(yùn)輸（運(yùn)費(fèi)買賣雙方協(xié)商）的產(chǎn)品配送方式，為需求群體提供雙門光學(xué)鍍膜設(shè)備。

恒譽(yù)真空奉行“以服務(wù)贏市場、以品質(zhì)贏客戶”的經(jīng)營宗旨，努力為客戶創(chuàng)造有價值的雙門光學(xué)鍍膜設(shè)備。公司健全質(zhì)檢系統(tǒng)，優(yōu)化生產(chǎn)流程，努力為客戶打造。本公司定位為親近客戶型企業(yè)，雙門光學(xué)鍍膜設(shè)備在鍍膜用途方面應(yīng)用良好，在市場營銷、設(shè)計開發(fā)及公司運(yùn)營過程中皆以需求群體需求為導(dǎo)向，滿足并爭取顧客的需求和期望。通過技術(shù)創(chuàng)新為顧客創(chuàng)造價值，為客戶提供差異化的產(chǎn)品和服務(wù)。

光學(xué)鍍膜機(jī)定制，

磁控濺射

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點，而上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量，從而實現(xiàn)高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用，產(chǎn)生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運(yùn)動軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動，它們的運(yùn)動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現(xiàn)了高的沉積速率。

隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

磁控濺射種類

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。

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