產(chǎn)品庫

鍍膜機(jī)廠家批發(fā)，廣東價(jià)位合理的大型裝飾鍍膜設(shè)備哪里有供應(yīng)， 恒譽(yù)真空擁有高素質(zhì)技術(shù)人員，以及強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)。以企業(yè)綜合實(shí)力為基礎(chǔ)，建立現(xiàn)代化率機(jī)制，不斷加強(qiáng)企業(yè)管理，提高經(jīng)營效益生產(chǎn)大型裝飾鍍膜設(shè)備，產(chǎn)品質(zhì)量保證，經(jīng)久耐用，具有鍍膜的用途。我司樹立“好服務(wù)是生命，企業(yè)滿意是目的”的服務(wù)原則，在全國;廣東、肇慶深受廣大需求群體的認(rèn)可與好評(píng)。

肇慶市高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司創(chuàng)立伊始，規(guī)模逐步發(fā)展壯大，憑著過硬的生產(chǎn)技術(shù)、豐富的管理經(jīng)驗(yàn)，好的客戶服務(wù)和良好的企業(yè)信譽(yù)，在機(jī)械和行業(yè)設(shè)備專用配件行業(yè)不斷進(jìn)步。在短時(shí)間內(nèi)完成了企業(yè)創(chuàng)建、完善、發(fā)展完善的過程，大型裝飾鍍膜設(shè)備市場廣闊，產(chǎn)品已經(jīng)銷售到全國;廣東、肇慶。

“打造行業(yè)好，滿足客戶的可靠需求”，我公司供應(yīng)的大型裝飾鍍膜設(shè)備支持在線支付;銀行轉(zhuǎn)賬的付款方式，一旦您付款，我們將會(huì)在雙方協(xié)商的時(shí)間發(fā)貨（運(yùn)費(fèi)：買賣雙方協(xié)商）。公司擁有成熟的產(chǎn)品檢測設(shè)備和科學(xué)的企業(yè)管理方法、精細(xì)的制造工藝及高科技人才做保障。大型裝飾鍍膜設(shè)備好銷售國內(nèi)機(jī)械和行業(yè)設(shè)備專用配件市場。

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磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運(yùn)動(dòng)主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴(kuò)展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕狻．?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易,而實(shí)際操作困難。主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個(gè)問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因?yàn)槟芰亢艽笠徊糠洲D(zhuǎn)為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個(gè)靶源。

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