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鍍膜機(jī)定制|肇慶實(shí)惠的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備_廠家， 肇慶市高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司成立于2012-07-23，是一家機(jī)械和行業(yè)設(shè)備專用配件各類產(chǎn)品，其中直流磁控濺射鍍膜設(shè)備為公司主導(dǎo)產(chǎn)品。憑借成熟的生產(chǎn)設(shè)備及可靠的經(jīng)營(yíng)管理模式，公司產(chǎn)品以有品質(zhì)、高價(jià)值銷(xiāo)售于全國(guó);廣東，深受中小企業(yè)的歡迎。

由我公司自主生產(chǎn)的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備，是經(jīng)機(jī)械和行業(yè)設(shè)備專用配件行業(yè)專家鑒定后評(píng)定為的產(chǎn)品，享譽(yù)業(yè)界。我們堅(jiān)持公司內(nèi)部建立的任何組織，流程，制度都建立在為客戶提供更良好的服務(wù)的基礎(chǔ)上，為了讓客戶能夠快速的收到貨物，我們采取的是陸運(yùn);公路運(yùn)輸?shù)奈锪鞣绞竭M(jìn)行配送，在全國(guó);廣東擁有眾多客戶。

正視挑戰(zhàn)，增強(qiáng)信心，創(chuàng)造輝煌。在成功取代傳統(tǒng)制造工業(yè)的同時(shí)，滿足了現(xiàn)代生產(chǎn)效率，高穩(wěn)定性和可靠性的精微加工的要求。恒譽(yù)真空儼然成為一家成熟的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)，供應(yīng)的直流磁控濺射鍍膜設(shè)備受到廣大中小企業(yè)的一致好評(píng)，產(chǎn)品在通過(guò)磁控濺射的方法能在工件表面鍍制各種金屬，或其化合物膜層，以達(dá)到改變其光電磁性能或起到裝飾性功效擁有良好的表現(xiàn)。

鍍膜機(jī)定制，

磁控濺射

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，而上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個(gè)平行于靶表面的封閉磁場(chǎng)，借助于靶表面上形成的正交電磁場(chǎng)，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來(lái)增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量，從而實(shí)現(xiàn)高速率濺射的過(guò)程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E（電場(chǎng)）×B（磁場(chǎng)）所指的方向漂移，簡(jiǎn)稱E×B漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng)，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng)，它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng)，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來(lái)轟擊靶材，從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。

隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶表面，并在電場(chǎng)E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過(guò)程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過(guò)程，和靶原子碰撞，把部分動(dòng)量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級(jí)聯(lián)過(guò)程。在這種級(jí)聯(lián)過(guò)程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量，離開(kāi)靶被濺射出來(lái)。

磁控濺射種類

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場(chǎng)位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。

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