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肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司創立伊始，規模逐步發展壯大，憑著過硬的生產技術、豐富的管理經驗，好的客戶服務和良好的企業信譽，在機械和行業設備專用配件行業不斷進步。在短時間內完成了企業創建、完善、發展完善的過程，磁控濺射卷繞鍍膜設備市場廣闊，產品已經銷售到全國。

本公司始終支持職工創新，創新技術、創新管理、創新環境、創新制度。磁控濺射卷繞鍍膜設備符合創新精神，與時俱進，適應用戶多變的需求。對于想要購買本公司產品客戶可通過銀行轉賬的支付方式支付交易，我們會在雙方協商的時間為您發送產品，同時我們還將為您提供產品售出后質保一年的售后服務。

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平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

鍍膜機價格_恒譽真空提供具有口碑的磁控濺射卷繞鍍膜設備， 真誠為客戶提供好的產品，周到細致的服務是肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司一直奉行的銷售準則，使得公司銷售的磁控濺射卷繞鍍膜設備在機械和行業設備專用配件行業中有著強大的競爭優勢。我司通過多年在本行業的不斷研究，以及對公司產品品質的堅持，已贏得廣大中小企業一致肯定。本公司將以“面向客戶，適應市場”為導向，力求價格讓用戶滿意，產品質量得客戶肯定。

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