產品庫

蒸發卷繞機_恒譽真空磁控濺射卷繞鍍膜設備提供商， 恒譽真空本著可靠執著，精益求精的精神，踐行“質量是企業信譽的基石”的指導方針。從產品品質著手生產制造磁控濺射卷繞鍍膜設備，以客戶的需求為生產的源動力，磁控濺射卷繞鍍膜設備有著良好的用戶評價。堅持以“質量取勝”的生產原則，力求為想購買磁控濺射卷繞鍍膜設備的客戶群眾提供滿意、放心的產品。

蒸發卷繞機，

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

恒譽真空技術力量雄量，制造設備精良，檢驗手段成熟，現已發展成為集設備研發、生產制造、銷售服務于一體的高新技術企業。恒譽真空依靠高素質的員工，健全的工藝設備，完整的質量管理體系，產品售出后質保一年的售后服務，不斷開拓創新，為廣大中小企業提供可靠的磁控濺射卷繞鍍膜設備。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司自成立伊始，就致力于打造屬于公司的自有。在機械和行業設備專用配件行業中不斷創新，融合成熟的技術，創意新穎的理念，生產有品質的磁控濺射卷繞鍍膜設備。磁控濺射卷繞鍍膜設備好銷售于全國，獲得廣泛、穩定的產品市場。

蒸發卷繞機_恒譽真空磁控濺射卷繞鍍膜設備提供商， 公司完善監管體系，深化生產管理，提高產品質量。磁控濺射卷繞鍍膜設備采用好的原材料進行生產制作，并以親民的價格出售，公司服務態度良好，合作信譽優良，歡迎廣大有意客戶光臨指導，或與與我司精誠合作，共展宏圖。公司的銷售范圍集中在全國，在這些地區的銷量龐大信譽優良。公司位置優越、交通便利歡迎您前來咨詢洽談。

如果您對我們的產品及服務有興趣，想要進一步了解車燈保護膜機，傾銷磁控濺射卷繞鍍膜設備，蒸發卷繞機請聯系我們