真空電鍍機，恒譽真空蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備廠家推薦， 肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術(shù)有限公司是主要對蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備進行開發(fā)、生產(chǎn)、銷售的企業(yè)，生產(chǎn)技術(shù)力量雄厚、制造工藝水平成熟，質(zhì)量監(jiān)督體系完善。自公司2012-07-23以來，已在機械和行業(yè)設(shè)備專用配件領(lǐng)域占據(jù)主要地位，用戶反饋良好。持續(xù)創(chuàng)新是企業(yè)生存和發(fā)展的源泉和動力，我司會再接再厲，生產(chǎn)更適合用戶需求、適應(yīng)市場發(fā)展的產(chǎn)品。

恒譽真空經(jīng)過多年的經(jīng)營發(fā)展，公司已經(jīng)擁有一支頗具水準(zhǔn)的經(jīng)營團隊。生產(chǎn)的蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備主要用于鍍膜加工，主要服務(wù)于廣東、肇慶地區(qū)。我們始終堅持“用心制造，誠信合作，品質(zhì)經(jīng)營”的營業(yè)理念，為廣大需求群體供應(yīng)優(yōu)異的產(chǎn)品，同時提高售后服務(wù)質(zhì)量，提升客戶滿意程度。

公司產(chǎn)品配套設(shè)施齊全，價格頗具市場競爭優(yōu)勢，性能適應(yīng)于國內(nèi)外市場的需求，深受廣大需求群體的青睞和好評。經(jīng)過多年的發(fā)展，恒譽真空以其雄厚的科技力量、豐富的生產(chǎn)經(jīng)驗，以及嚴(yán)格的質(zhì)量管理享譽業(yè)內(nèi)。恒譽真空溫馨提示廣大需求群體：在您以在線支付;銀行轉(zhuǎn)賬的方式付款后，我們提供的蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備將在雙方協(xié)商的時間內(nèi)發(fā)貨。

真空電鍍機，

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，同時濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮氣或氧氣。當(dāng)金屬靶材撞向零件時由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉(zhuǎn)為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

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