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鍍膜機廠家_廣東口碑好的磁控濺射卷繞鍍膜設備供應， 恒譽真空以有效生產磁控濺射卷繞鍍膜設備為主營方向，產品很好的詮釋其鏡片，鏡頭，飾品等表面鍍膜，能起到增透、濾光、裝飾等功效的用途，主要銷售往全國等地區。依靠完善、機制健全、不斷強化的服務理念，為了方便廣大中小企業，我司盡心盡力提供完善的售后服務，也因此受到需求客戶一致的好評與贊譽。

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平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

恒譽真空產品質量可靠，價格公道，每一個出庫的磁控濺射卷繞鍍膜設備都要經過嚴格質量檢測，達到質量標準才可以出廠。高標準，精細化，零缺陷，是企業對職工的基本要求。當中小企業與我公司簽訂訂單后，您需要注意我司指定的付款方式為銀行轉賬，臨時有變動的情況下，我們會及時與您取得聯系。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司自2012-07-23成立以來，專注于為中小企業提供好的磁控濺射卷繞鍍膜設備。公司及時跟進潮流動態，立足新起點，開創新局面。擁有成熟的生產加工設備以及可靠的包裝生產流水線，新產品開發周期短、能力強，精度高，制造工藝成熟。歡迎廣大中小企業前來合作。

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