產(chǎn)品庫(kù)

鍍膜機(jī)廠家批發(fā)_恒譽(yù)真空高質(zhì)量的大型裝飾鍍膜設(shè)備出售， 本公司生產(chǎn)的大型裝飾鍍膜設(shè)備銷售于全國(guó);廣東、肇慶地區(qū)，不管是自主產(chǎn)品還是代理產(chǎn)品都已經(jīng)達(dá)到同種產(chǎn)品中的產(chǎn)品，深受需求群體的信賴與支持。恒譽(yù)真空憑借多年來(lái)對(duì)大型裝飾鍍膜設(shè)備的生產(chǎn)經(jīng)銷經(jīng)驗(yàn)，重視服務(wù)，強(qiáng)化服務(wù)，堅(jiān)信“客戶想到的我們要做到，客戶沒有想到的我們也要做到”，公司業(yè)績(jī)?cè)谕袠I(yè)中有口皆碑。

肇慶市高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司創(chuàng)立伊始，規(guī)模逐步發(fā)展壯大，憑著過(guò)硬的生產(chǎn)技術(shù)、豐富的管理經(jīng)驗(yàn)，好的客戶服務(wù)和良好的企業(yè)信譽(yù)，在機(jī)械和行業(yè)設(shè)備專用配件行業(yè)不斷進(jìn)步。在短時(shí)間內(nèi)完成了企業(yè)創(chuàng)建、完善、發(fā)展完善的過(guò)程，大型裝飾鍍膜設(shè)備市場(chǎng)廣闊，產(chǎn)品已經(jīng)銷售到全國(guó);廣東、肇慶。

鍍膜機(jī)廠家批發(fā)，

磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，而上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個(gè)平行于靶表面的封閉磁場(chǎng)，借助于靶表面上形成的正交電磁場(chǎng)，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來(lái)增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量，從而實(shí)現(xiàn)高速率濺射的過(guò)程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E（電場(chǎng)）×B（磁場(chǎng)）所指的方向漂移，簡(jiǎn)稱E×B漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng)，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng)，它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng)，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來(lái)轟擊靶材，從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶表面，并在電場(chǎng)E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過(guò)程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過(guò)程，和靶原子碰撞，把部分動(dòng)量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級(jí)聯(lián)過(guò)程。在這種級(jí)聯(lián)過(guò)程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量，離開靶被濺射出來(lái)。

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