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真空電鍍機，大量供應質量優的直流磁控濺射鍍膜設備， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司坐落于肇慶市高要區金渡鎮世紀大道交警中隊西側，于2012-07-23創辦，自成立以來就致力于直流磁控濺射鍍膜設備的生產與經營銷售。公司擁有一大批可靠技術人才，充分滿足廣大中小企業對產品的需求，為客戶供應市場上好的直流磁控濺射鍍膜設備。

真空電鍍機，

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態和非平衡磁控陰極。平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

正視挑戰，增強信心，創造輝煌。在成功取代傳統制造工業的同時，滿足了現代生產效率，高穩定性和可靠性的精微加工的要求。恒譽真空儼然成為一家成熟的直流磁控濺射鍍膜設備生產企業，供應的直流磁控濺射鍍膜設備受到廣大中小企業的一致好評，產品在通過磁控濺射的方法能在工件表面鍍制各種金屬，或其化合物膜層，以達到改變其光電磁性能或起到裝飾性功效擁有良好的表現。

有品質才有市場，公司的產品以質量作為保證，廣受中小企業的歡迎，供應的直流磁控濺射鍍膜設備若有需要也可以進行定制。我公司的直流磁控濺射鍍膜設備已通過批發;零售;的銷售方式銷往到了全國;廣東各地，用戶對產品接受度高，為廣大中小企業所歡迎。

真空電鍍機，大量供應質量優的直流磁控濺射鍍膜設備， 真誠為客戶提供好的產品，周到細致的服務是肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司一直奉行的銷售準則，使得公司銷售的直流磁控濺射鍍膜設備在機械和行業設備專用配件行業中有著強大的競爭優勢。我司通過多年在本行業的不斷研究，以及對公司產品品質的堅持，已贏得廣大中小企業一致肯定。本公司將以“面向客戶，適應市場”為導向，力求價格讓用戶滿意，產品質量得客戶肯定。

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