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鍍膜機廠家，恒譽真空提供合格的磁控濺射卷繞鍍膜設備， 恒譽真空建立高起點、高目標、高質量、率、有效益的“五高”標準，鍛造出質量良好的產品，獲得廣闊的銷售市場。供應的磁控濺射卷繞鍍膜設備主要用于鏡片，鏡頭，飾品等表面鍍膜，能起到增透、濾光、裝飾等功效，在廣東肇慶區域范圍內受到廣大中小企業的青睞。公司憑借良好的信譽，雄厚的實力，好的產品，低廉的價格服務于廣大用戶。

肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司創始于2012-07-23。在競爭日益激烈的機械和行業設備專用配件行業中發憤圖強、積極進取、力爭上游，創辦至今已為廣大中小企業提供了數不勝數的好品質磁控濺射卷繞鍍膜設備，好的產品品質獲得了中小企業一致肯定，在消費者中有口皆碑。

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磁控濺射是物理中氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射定義

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。

磁控濺射原理

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，并且在該區域中電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程，和靶原子碰撞，把部分動量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。

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