產(chǎn)品庫

鍍膜機定制_肇慶哪里有優(yōu)良的硬質膜鍍膜設備， 能為廣大客戶服務是我司的榮幸，我司提供的硬質膜鍍膜設備在生產(chǎn)制造中，有專人監(jiān)管，對每批產(chǎn)品進行嚴格把關，產(chǎn)品質量可靠。硬質膜鍍膜設備以需求群體為主要銷售對象，有很好的口碑。恒譽真空同樣將以更優(yōu)的品質、更滿意的服務、更合理的價格回饋廣大客戶。

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公司產(chǎn)品配套設施齊全，價格頗具市場競爭優(yōu)勢，性能適應于國內(nèi)外市場的需求，深受廣大需求群體的青睞和好評。經(jīng)過多年的發(fā)展，恒譽真空以其雄厚的科技力量、豐富的生產(chǎn)經(jīng)驗，以及嚴格的質量管理享譽業(yè)內(nèi)。恒譽真空溫馨提示廣大需求群體：在您以銀行轉賬的方式付款后，我們提供的硬質膜鍍膜設備將在雙方協(xié)商的時間內(nèi)發(fā)貨。

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平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

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