鍍膜機定制_肇慶哪里有優良的硬質膜鍍膜設備
所在地:廣東省肇慶市
聯系人:宋生
價格:面議
品牌:恒譽,,,,
發布時間:2024-11-03
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肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司自成立伊始,就致力于打造屬于公司的自有。在機械和行業設備專用配件行業中不斷創新,融合成熟的技術,創意新穎的理念,生產有品質的硬質膜鍍膜設備。硬質膜鍍膜設備好銷售于全國;廣東、肇慶,獲得廣泛、穩定的產品市場。
公司產品配套設施齊全,價格頗具市場競爭優勢,性能適應于國內外市場的需求,深受廣大需求群體的青睞和好評。經過多年的發展,恒譽真空以其雄厚的科技力量、豐富的生產經驗,以及嚴格的質量管理享譽業內。恒譽真空溫馨提示廣大需求群體:在您以銀行轉賬的方式付款后,我們提供的硬質膜鍍膜設備將在雙方協商的時間內發貨。
鍍膜機定制,
平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等,兩極磁力線閉合于靶面,很好地將電子/等離子體約束在靶面附近,增加碰撞幾率,提高了離化效率,因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電,靶材利用率相對較高,但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面,基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念,即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極,兩極磁力線在靶面不完全閉合,部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域,從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片,增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構,同時濺射速率要減小。
旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備,多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因為靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源,回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴,濺射速率很小,同時接地技術很復雜,因而難大規模采用。為解決此問題,發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶,加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化,與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。
主要問題是反應不光發生在零件表面,也發生在陽極,真空腔體表面,以及靶源表面。從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術,很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源(磁控,多弧,離子)所必需,因為能量很大一部分轉為熱量,若無冷卻或冷卻不足,這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。
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